08/12/2009 – Defesa de dissertação de mestrado.
Defesa de Tese: INVESTIGAÇÃO INTERFEROMÉTRICA DA REAÇÃO HF – SÍLICA (SIO2) EM PRESENÇA DE CAMPOS ELÉTRICOS
Aluno: Ruy Batista Santiago Neto
Orientador: Bernhard Lesche
Local/Data: Dia 08/12/2009, às 14:00 horas na sala 3505-B do Instituto de Ciências Exatas/UFJF.